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構成

构成

クリーナー主要な製品概要

高精細化・高機能化するディスプレイ、半導体、電子部品マーケットに対し、各種製造プロセスで使用される薬液の開発・製造・販売を行っております。独自の開発力を武器に他社にない優れた性能を有する製品ラインナップを有しており、エレクトロニクス産業全体の発展に貢献しています。

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液 晶

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LCDカラーフィルター用の現像に最適な現像液をラインナップ。独自の配合技術により、細線BM現像に対しても良好な現像性を実現。
 NK disperse系列現像液

LCDカラーフィルター用の現像に最適な現像液をラインナップ。独自の配合技術により、細線BM現像に対しても良好な現像性を実現。
(1)HAC:LCDカラーフィルターのRGBレジスト用 活性剤配合のネガレジスト現像液です。界面活性剤効果により細線現像や幅広い現像マージンを実現可能。
(2)DXRGB用活性剤配合のネガレジスト現像液です。高濃縮タイプのため、優れた現像性能・薬液使用量の削減が可能となります。有機アルカリタイプのため、金属へのダメージが少なく、COA (Color Filter On Array)プロセスも対応可能です。

 NK poleve リワーク剥離液

剥離性の強いリワーク再生剥離液です。ガラスに対するダメージが少なく、RGB,BM,UV cure/Heat cure OC, PS用レジストに対応可能です。

 NK E-Cleaner S系列洗浄液

有機系洗浄液で、油分・研磨材・ダストなどの汚れを除去可能な製品です。


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半 導 体
高精細なフォトリソグラフィプロセスに対応した、各種現像液、剥離液をランナップしています。その他にも、WLPプロセスで用いられる厚膜ネガレジストやドライフィルムレジスト用剥離液、ドライエッチング残渣除去液などもラインナップしております。各種法規制に対応した製品、NMP非含有製品など環境に配慮した薬液をご提案可能です。

NK disperse UTシリーズ現像液
半導体、ディスクリートに使用される有機アルカリ・活性剤配合タイプのネガ・ポジレジスト用現像液です。カラーレジストやPIレンズなどネガ、ポジ両方の現像に対応しており、様々なプロセスに対して適用可能です。レジスト分散性に優れた活性剤を選定し、パターン上にレジスト残渣を残さず、加えてレジスト起因の微細泡を消泡させる効果を有するため、次工程へ移行することが可能です。
NK poleveシリーズレジスト剥離液
(1)汎用レジスト剥離液
         NK poleve 517
         NK poleve PRS100
一般的な液体レジスト用剥離液
(2)高機能レジスト剥離液
         NK  poleve 496
         NK  poleve 480 
DRIEプロセスにある変性レジストや厚膜レジストに対応可能。
(3)ドライフィルム用剥離液
         NK poleve 117
         NK poleve SH
ドライフィルム専用剥離液。

半導体プロセス応用事例
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WLPにおいて、Micro Bump,Cu pillar, RDL、TSVなどのプロセスで、日本化薬の剥離液はご使用いだだけます。


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電 子 部 品
電子部品のフラックス等の洗浄に用いられる各種洗浄剤をラインナップしています。フッ素、塩素などのハロゲン系溶剤を一切含有しない、地球環境に配慮した洗浄剤です。フラックスの洗浄並びに脱脂用洗浄など様々な用途に適した洗浄剤をご提案可能です。

 NK E-cleaner A シリーズ

原液使用とすることで、高い洗浄力を実現した製品ラインとなります。水溶性溶剤、特殊界面活性剤の配合により、微細な部分のフラックス残渣の除去を実現した準水系洗浄剤です。

 NK E-cleaner SO シリーズ 

複数の溶剤を混合し、汎用的な油分、フラックスの除去性能が非常に高い炭化水素系洗浄剤です。強力な浸透力と溶解力により、細部に付着している汚れ(油分・フラックス)が除去可能です。




Tel:0510-83780879
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